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Protéger ses créations
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2010 - MARQUES ET DESIGN : LES BONS REFLEXES





le 11 février 2010 à Rennes
le 3 juin 2010 à Paris
- - - PRIX : 590 €
(450 € Tarif réduit)

OBJECTIFS :
• Connaitre les dispositions régissant les marques, dessins et modèles, droit d’auteur
• Comprendre comment les intégrer dans sa stratégie de protection

PUBLICS CONCERNES :
Toute personne de formation initiale scientifique, juridique, ou administrative souhaitant acquérir des notions sur les marques, dessins et modèles et droits d’auteur

Pré-requis :
Aucun.

Pédagogie :
• Exposés.
• Dialogues avec les intervenants.
• Supports pédagogiques et documentation remis
aux participants.

CONTENU DES ENSEIGNEMENTS :

Pourquoi se protéger ?
• Rappel des enjeux et des évolutions récentes

Comment se protéger ? ...
• Les différents droits de PI :
- Marques :
          o Protection du signe distinctif
          o Marques semi-figuratives, figuratives
          o Evocation de la problématique de protection des couleurs, des formes, des sons
- Dessins et modèles
          o Problèmes de divulgation
          o Exclusions
- Droits d’auteur
          o Catégories et natures des œuvres
          o Preuve
          o Titularité

… Et à quelles conditions ?
• Objet et critères de chaque protection
• Quand et où se protéger ? (Dépôt national, communautaire, international)
• Durée des droits
• Coûts

Les recherches à effectuer

La complémentarité des droits

Cas pratique
• Illustration par une mise en situation reprenant la création d’une marque ou d’un design

Conclusion : Rappel des points clés